이천 반도체공장 질식사고 ‘압축공기 대신 질소 사용한 것’이 원인
이천 반도체공장 질식사고 ‘압축공기 대신 질소 사용한 것’이 원인
  • 채정민 기자
  • 승인 2015.05.06
  • 호수 295
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밀폐공간에 남아 있던 질소 때문에 작업근로자 질식 추정
                                                                (이미지 제공 : 뉴시스)

 


지난달 30일 경기도 이천에 소재한 S반도체 공장 신축 현장에서 발생한 가스사고는 배기장치에 압축공기 대신 질소를 투입하면서 일어난 것으로 드러났다. 경찰은 압축공기 대신 투입한 질소로 인해 협력사 직원 3명이 숨진 것으로 추정하고 있다고 최근 밝혔다.

S사도 가스사고 관련 브리핑에서 “스크러버가 애초 압축공기를 사용하도록 설계됐는데 시험 가동 중이라 질소를 미량 투입했고, 당시 질소가 계속 흐르는 상태였다”고 밝혀 경찰의 수사결과를 뒷받침했다.

참고로 스크러버는 반도체 제조공정에서 LNG와 압축공기를 투입해 800도의 고열로 태워 유해물질을 저감해주는 장치다. LNG의 경우 장치 내부 온도가 실온 상태인 30도로 측정된 점을 고려하면 모두 소각되고 없는 상태라고 판단했다.

즉 작업장 내 LNG 가스가 모두 소각되고, 질소가스가 남아 있는 상태에서 작업자들이 투입됐다가 질식사했을 것이라는 추정이다.

이들이 작업 투입 전 산소농도를 측정했는지에 대해서는 불명확하다. 작업 지시서 상에는 내부 밀폐된 공간에 들어갈 때 산소농도를 측정하도록 기재돼 있지만, 사고 현장에서는 간이 산소농도 측정기가 발견되지 않았다.

이 때문에 사고 이전에 작업자들이 산소농도를 측정하고 내부로 들어갔는지 여부는 확인되지 않고 있다. 다만 사고 발생 이후 측정한 산소농도는 21%로 측정됐다. 통상 밀폐된 공간에서 산소농도는 19% 이하일 때 위험한 것으로 판단되고 있다.

이 같은 정황으로 미뤄 S사는 이번 사고가 질소에 의해 사고가 난 것으로 보고 있다. S사의 한 관계자는 “압축공기보다 미량의 질소를 지속적으로 흘려 스크러버 내부의 유해물질을 닦아내던 중 사고가 발생했다“면서 ”질소가 직접적인 원인인지는 수사당국 등의 정밀한 조사가 필요하다”고 설명했다.


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